1 機械拋光（guāng）

　　機械拋（pāo）光是靠切削、材料表麵（miàn）塑性變形去掉被拋光後（hòu）的凸部而得到平滑麵的拋光方法，一般使用油（yóu）石條、羊毛輪、砂（shā）紙（zhǐ）等（děng），以手工操作為主，特殊零件如回轉體表麵，可使用轉台等輔助工具，表麵（miàn）質量 要求高的可采用超（chāo）精研（yán）拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具，在含有（yǒu）磨料的（de）研拋液中，緊壓在工（gōng）件被加工表麵（miàn）上，作高速旋轉運動。利（lì）用該技（jì）術可以達到 Ra0.008 μ m 的表麵粗糙度，是各種拋光方法中（zhōng）最高的。光學鏡片模具（jù）常采用這種（zhǒng）方法。

　　2 化學拋光

　　化學拋（pāo）光是讓材（cái）料在化學介質（zhì）中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從（cóng）而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形狀複雜的工件（jiàn），可以同時拋光（guāng）很多工件，效率高。化學拋光的核心（xīn）問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表麵（miàn）粗糙度一般為（wéi）數 10 μ m 。

　　3 電解（jiě）拋光

　　電解拋光基本原理與化學拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表麵微小凸出（chū）部分，使表麵光滑。與化學拋光相比，可以消除陰（yīn）極反應的影響，效（xiào）果較好。電化學拋光過程分為兩步：

　　（ 1 ）宏觀整平 溶解產物向電（diàn）解液中擴散，材料表麵幾何粗糙（cāo）下降， Ra ＞ 1 μ m 。

　　（ 2 ）微光平整 陽極極化，表麵光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。

　　4 超（chāo）聲波拋光

　　將工件放入磨料懸浮液中並一起置於超聲波場中，依靠超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會引起工件變形（xíng），但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工（gōng）可以與化學或電化學方法（fǎ）結合。在溶液腐蝕、電解的基礎（chǔ）上（shàng），再（zài）施加超聲波振動攪（jiǎo）拌溶液，使工件表（biǎo）麵溶解產物脫離，表麵附近的腐蝕或電解質均勻；超聲波在液體中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程，利於表（biǎo）麵光亮化。

　　5 流體拋光

　　流體拋光是（shì）依靠高速流動的液體及其攜帶的磨（mó）粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨（mó）等。流體動力（lì）研磨是由液壓驅動，使攜（xié）帶（dài）磨粒（lì）的（de）液體介質高速（sù）往（wǎng）複流過工件表麵。介質主要采用在較低（dī）壓力下流過性好的特殊（shū）化合物（聚合物狀物質）並摻上磨料製成，磨料可采用碳化矽粉末。

　　6 磁研磨拋光

　　磁研磨拋光（guāng）機是利用磁性磨料在磁場作用下形（xíng）成磨料刷，對工（gōng）件磨削加工。這種方（fāng）法加工效率高，質量好，加工條件容易控製，工作條件好。采用合適的磨料，表麵粗糙度（dù）可以達到 Ra0.1 μ m 。

　　在塑料模具加工中所說的拋（pāo）光與其他（tā）行業中所要求的表麵拋（pāo）光有很大的不同，嚴格（gé）來說（shuō），模具的拋光應該稱為鏡麵加工（gōng）。它不僅對拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標準（zhǔn）。表麵拋光一般（bān）隻要求獲得光亮的表麵即可。鏡麵加工的標準分為四（sì）級： AO=Ra0.008 μ m ， A1=Ra0.016 μ m ， A3=Ra0.032 μ m ， A4=Ra0.063 μ m ，由於電解拋（pāo）光、流體拋（pāo）光等方法很難精確控製零件的幾何精確度，而化學拋光、超聲波拋光（guāng）、磁研磨拋光等方法的表麵質量又達不到（dào）要求，所以（yǐ）精密模具的鏡麵加工還是以機械拋光為（wéi）主。